연구소 개요
PI첨단소재는 창조적 혁신기술로 Polyimide의 가능성을 실현시켜
사람, 사회, 세상을 연결합니다.
Challenges and Endless Possibilities
목표
미래성장 동력의 확보 / 고객과 시장의 Needs 반영
원천 기술 확보와 융합기술의 소재 개발
실행 방안
신재생에너지, 자율주행, IoT 분야의 신소재 개발
권리보호를 위한 전문적 관리 및 대응체계 구축
미래상
미래성장 동력 분야의 소재 Leader / 전략적 Specialty 소재 개발
고객과 시장의 Needs를 최우선으로 하는 조직문화 정착
연구소 연혁
2022
산자부 주관 등대기업 선정
2021
서울 > CRD (Corporate R&D) Center 이전
R&D 센터 신규 건립 / 개관 (진천)
2020
과기부 주관 우수기업연구소 인증 취득
IP R&D 수행 우수기관 선정
민간 R&D 혁신유공 표창 수상
2019
지식재산경영기업 특허청장상 수상
2018
Pilot동 준공
그라파이트 파일럿용 가공설비 준공
2017
Varnish Research & Development 시작
2016
기업부설연구소 인정서 취득
2012
연구개발전담부서 이전 신고 (진천)
2010
연구개발전담부서 신고 (수원)
연구과제 : 2L CCL, TPI, 고기능성 LED필름개발 (LED)
반도체 실자용 필름 / 고기능성 / 후도필름
2008
연구개발전담부서 설립
연구소 강점
Polymer 중합 기술 (고분자 분자구조 제어 기술)
폴리이미드 중합에 사용되는 모노머는 크게 무수물과 아민 두 가지로 나뉩니다.
무수물과 아민의 종류는 각각 수십 종류가 있습니다. 이러한 다양한 물질에서 어느 것을 선택하느냐에 따라 고분자의 물성의 차이가 있으며 또한 중합 기술의 차이가 발생합니다. 회사는 다앙한 종류의 모노머를 합성한 경험을 바탕으로 폴리이미드 고분자에 대한 분자설계 기술을 보유하고 있어 시장에서 요구하는 특성을 갖는 폴리이미드 소재를 개발할 수 있는 능력을 보유하고 있습니다.
Film 제조 기술 (Solvent Casting 제막 기술)
폴리이미드는 일반적인 상용 고분자인 PP, PE와 같은 용융 압출에 의한 제막이 아닌 바니쉬라고 불리는 액상 고분자 상태에서 필름을 제막하는 고난이도의 제조 방식에 의해 제작됩니다. 이러한 Solvent Casting 방식에 의해 제조되는 필름은 제막 기술에 따라 위치별 제품의 특성이 차이가 나타나는 이방성이 나타날 수 있으나 회사의 제품은 이러한 이방성을 기술력으로 극복함으로써 위치별 제품의 특성의 차이가 없는 등방성의 제품을 만들어 낼 수 있다는 강점이 있습니다.
입자분산 기술
일반적으로 필름에 입자를 혼합하는 것은 어려운 기술입니다. 그 이유는 고분자와 입자의 상태가 다른 물질과의 혼용성 문제 때문에 첨가한 입자가 기능을 발휘하지 못하고 오히려 고분자의 특성만 저해시키는 부정적인 영향을 미칠 수 있기 때문입니다. 회사는 입자와 고분자의 혼합성의 한계를 극복하여 필름 및 바니쉬 개발을 성공하였으며, 이미 시장에서 양산판매하고 있을 정도로 관련 기술에 대해서는 인정받고 있습니다.
가공 및 분석기술
회사는 PI필름 글로벌 M/S 1위 기업입니다. 이는 고객이 원하는 제품을 구현하기 위해 노력하고 있다는 것의 반증이기도 합니다. 다시 말해 고객이 원하는 특성을 갖춘 제품을 개발하는 것이 회사의 목표이며, 이를 위해 다양한 분석 장비 및 실험장비를 보유하고 있습니다. 고객이 원하는 것과 평가하고 있는 것을 선제 대응하여 고객의 문제를 선제적으로 해결하고 경쟁사 대비 우수한 제품을 만들기 위해 UTM을 비롯한 기계적 물성 측정장비, TMA 등의 다양한 열특성 측정장비, Sputter 증착, 코팅 설비, SEM 등의 전문 분석장비 등 30종 이상 100여대의 장비를 보유한 폴리이미드 개발 전문 기업입니다.
